В России испытывают первую отечественную машину для литографии Это оборудование для производства полупроводников. Пока техпроцесс сильно отстает от мировых лидеров. Но и то, что будет получаться, уже может найти применение

Начались испытания первого российского литографа. С помощью этой технологии можно выпускать большеразмерные чипы до 350 нанометров, заявил замминистра промышленности и торговли России Василий Шпак, в кулуарах конференции ЦИПР в Нижнем Новгороде. Испытания, по словам Шпака, начались в Зеленограде. Чипы размером до 350 нанометров используются в микроконтроллерах, телекоммуникационных схемах, автомобильной электронике.

Следующий шаг, отметил замминистра, — это выпуск чипов до 130 нанометров к 2026 году. Оборудование такого уровня сложности собирают лишь несколько мировых игроков, включая нидерландский ASML, Canon и Nikon.

А дальше будет разработка литографа для чипов 90 нанометров и оборудования для еще более тонких техпроцессов, заключил Шпак. Это уже уровень чипов современных смартфонов. Те чипы, выпуск которых Россия тестирует уже сейчас, уже могут использоваться в системах наведения ракет или в системах наведения дронов с помощью искусственного интеллекта.